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ASML(ASML.US)三季度交付10台EUV光刻机,净利润高达11亿欧元

本文来自 “半导体行业观察”

日前,业内领先的半导体设备供应商ASML(ASML.US)发布了公司2020年第三季度的财报。财报显示,净销售额(net sales)金额为40 亿欧元,净利润金额(net income)为11 亿欧元,毛利率(gross margin)达到47.5%。从订单上看,公司在第三季度新增订单(net booking)金额为29 亿欧元。

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据该公司首席执行官Peter Wennink 介绍,ASML在第三季度一共交付了10 台EUV 系统,并在本季度实现了14 台系统的销售收入。而在第三季度的新增订单达到29 亿欧元,其中5.95 亿欧元来自4 台EUV 设备。从这个说明我们可以看到,ASML EUV光刻机的售价约为1.48亿欧元,折合人民币11.74亿元。

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从上图可以看到,EUV光刻机占公司营收的比重,从上个月的39%跃升到本月的66%。而从终端用户的数据来看,这些购买者主要集中在logic方面的客户方面。而从该地区上看,中国台湾地区贡献的营收从上季度21%提升到本季度的47%,由此可以见到,这主要是由台积电采购EUV光刻机引发的转变。


与此同时,韩国贡献的营收正在下降,从中可以看出点端倪,也能理解为何三星的高管最近去荷兰拜访ASML总部,相信是为了争取更多的光刻机。
在谈到第四季度的预测,ASML方面表示,我们期待第四季度的销售额将在36 亿欧元到38 亿欧元之间,毛利率约在50%。研发成本约5.5 亿欧元,销售及管理费用约1.4 亿欧元。我们将实现2020 年全年的销售预期。预估2020 年度有效税率在14%左右。

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在发布EUV财务数据的同时,ASML还带来了两款新设备,分别是DUV领域的TWINSCAN NXT:2050i和EUV领域的TWINSCAN NXE:3600D。

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ASML进一步指出,NXT:2050i 基于NXT 平台的新版本,其中包括掩模版工作台,晶圆工作台,投影物镜和曝光激光器的技术改进。由于这些创新,该系统提供了比其前身更好的套刻精度控制,并具有更高的生产率。

他们也表示,在EUV 光刻业务领域,公司绝大部分TWINSCAN NXE:3400B 系统在客户处同时进行了生产率模组的升级。而TWINSCAN NXE:3600D 则是公司EUV 路线图上的新机型,30 mJ / cm2 的曝光速度达到每小时曝光160 片晶圆,提高了18%的生产率,并改进机器匹配套准精度至1.1 纳米。根据计划,他们将于2021 年的中期开始发货。


据相关资料显示,目前,ASML已经投产的最先进光刻机是3400C,但主力出货型号是3400B。参数方面,3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小时可曝光125片晶圆。



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