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英特尔(INTC.US)最新7纳米芯片设计认证完成,台积电有望协助生产

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下面是今日的「每日芯闻」

英特尔 7 纳米 Meteor Lake 芯片设计认证完成,台积电有望协助生产

英特尔CEO Pat Gelsinger 日前在 J.P. Morgan Global TMC Week 活动宣布,7 纳米制程的 Meteor Lake 处理器计算模块已完成「Tape in」设计认证完成阶段,这代表 Meteor Lake 处理器设计已准备就绪。

外媒报导,7 纳米制程 Meteor Lake 处理器将为新一代 Core-i 系列处理器导入重大设计变更,也就是以类似小芯片的方式藉由多个计算模块(Compute Tile)组成,并采用取代 Golden Cove 的全新 Redwood Cove 核心架构,预计可带来 IPC 性能和架构方面的重大改进,将接替 10 纳米制程 Alder Lake 和 Raptor Lake 处理器。

有消息指出,英特尔之前重新设计 Redwood Cove 架构,并采用 7 纳米制程的极紫外光曝光技术(EUV)。有参考数据指出,晶圆代工龙头台积电将成为 Redwood Cove 核心架构处理器的备用代工厂。

大陆受日本KrF光刻胶供应限制

受福岛地震影响,由于KrF光刻胶产能受限以及全球晶圆厂积极扩产等原因,导致中国大陆多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张,部分中小晶圆厂KrF光刻胶甚至出现断供。

光刻胶是IC制造的核心耗材,其质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素,属于高技术壁垒材料,需要长期的技术积累。 从市场格局看,日本合成橡胶、东京应化、信越化学等五大光刻胶厂商占据全球约87%的市场份额。

根据SEMI数据,日本几大厂商在g线/i线、KrF、ArF胶市场中市占率分别为61%、80%、93%,而国内g线/i线自给率约为20%,KrF光刻胶的自给率不足5%,12寸硅片的ArF光刻胶目前尚无国内企业可以大规模生产。目前多家国内晶圆厂正在加速验证导入国内KrF光刻胶,有助于国产光刻胶的突破。

在国家02专项等政策扶持下,国内光刻胶近年来已取得不少进展。

其中,南大光电宣布ArF光刻胶25吨产线建设已完成,明年将量产,性能与日本产品同等,已经拿到首个订单;北京科华KrF光刻胶已通过包括中芯国际在内的部分客户认证,并实现批量供货;晶瑞股份g-line/i-line光刻胶量产,KrF光刻胶已进入客户测试阶段,即将研发ArF光刻胶;上海新阳的ArF干法、KrF厚膜等中试光刻胶产品已取得优异的客户端测试结果。
周四(5月27日),晶瑞股份大涨20%,2017年上市以来涨了10倍。

汽车芯片短缺浮现好转迹象,通用汽车宣布下周起重启5工厂

通用汽车5月27日表示,因全球半导体芯片短缺而停产的美国、墨西哥和加拿大等地组装厂,将从下周起将重新开始营运。

该公司表示,墨西哥生产雪佛兰 Equinox、GMC Terrain 和雪佛兰 Blazer 的两个工厂将于 5 月 31 日复产。此外,南韩的富平组装厂也将于同日全部恢复生产,该厂主要生产雪佛兰 Trailblazer 和 Buick Encore GX。昌原组装厂也将恢复为两班制。

至2024全球将新增22座8英寸晶圆厂

5月27日消息,据国外媒体报道,虽然台积电、力积电等芯片代工商,目前均在新建 12 英寸晶圆厂,但外媒最新的报道来看,8 英寸晶圆厂在未来的几年也会有明显增加。

外媒是援引国际半导体产业协会的数据,报道 8 英寸晶圆厂在未来的几年仍将会增加的。国际半导体产业协会提到,8 英寸晶圆厂到 2024 年预计增加 22 座,主要是芯片代工商在寻求增加产能,寻求解决当前的全球芯片短缺。


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