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从阿斯麦(ASML.US)、Nikon、佳能(CAJ.US)年报看光刻机行业:EUV已占4成,逻辑客户主导半导体设备行业中长期需求

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本文来自 微信公众号“半导体设备与材料”

光刻机作为晶圆制造工艺最核心设备,相当于半导体的火车头,且因其被ASML垄断接近90%的市场格局,其订单趋势、产品创新对全球半导体产业具有前瞻性参考价值。

市场规模:2020年全球光刻机销量413台,估计销售额130多亿美元均创历史新高。根据ASML、Canon、Nikon公告,全球光刻机销量413台,同比增长15%,按季度依次是95台、95台、97台、126台,分别同比增长19%、25%、8%、12%。参考ASML单价,我们估计全球光刻机市场规模达到130多亿美元,同比增长20%以上,且2016-2020年全球光刻机市场规模年均复合增长23%。

市场增量:光刻机行业市场规模的增量主要来自EUV,全球销量占比27%的EUV与ArF immersion占光刻机市场销售额的82%。2020年EUV光刻机销量31台占比8%,销售额55亿美元同比增长76%,占光刻机市场规模的比例为41%;ArF i销量80台占19%,销售额估计54亿美元同比下降7%,但占全球光刻机市场的40%。ArF dry、KrF、i-line光刻机销量分别为32台、130台、140台,分别同比增长3%、57%、25%,销量占比依次是8%、31%、34%,销售额占比依次是5%、11%、3%。

竞争格局:ASML垄断约90%光刻机市场。2020年413台光刻机中,ASML销售258台占比62%,Canon销售122台(KrF、i-line)占比30%,Nikon销售33台占比8%,按销售额计算,ASML、Canon、Nikon的光刻机销售额占比依次是91%、3%、6%。2020年,EUV目前仅有ASML制造供应;ArF immersion 80台销量中ASML销售了68台占85%,Nikon销售了12台占15%;ArF dry光刻机32销量中,ASML销售22台占69%,Nikon销售10台占比31%;KrF光刻机行业销量140台中,ASML占79%,Canon占19%,Nikon占2%,i-line光刻机销量中,ASML占24%,Canon占69%,Nikon占6%。

客户结构:ASML逻辑客户收入贡献比例7成,但存储客户的采购额2020年实现了同比正增长。2020年,ASML逻辑客户收入占比72%,存储客户收入占比仅为28%但相比2019年上升了1个百分点。实际上,逻辑客户2020年收入74亿欧元同比增长8%,预计2021年同比增长10%达到82亿,存储客户2020年收入29亿欧元同比增长14%,预计2021年同比增长20%达到35亿欧元,表明3D Nand、DRAM等存储厂资本开支持续恢复增长。

EUV光刻:2021年延续高增长势头,High-NA EUV光刻系统将始于2nm、2nm+等技术节点。2020年ASML EUV收入45亿欧元,同比增长59%,预计2021年EUV光刻机收入58亿欧元同比增长30%。尽管EUV也将被用于DRAM(尤其是1a技术节点及以下),但Logic先进制程仍是主要需求方。High-NA EUV光刻系统将始于N2、N2+技术节点,其量产时间表估计将是2025-2026年。ASML将在2022年完成第一台High-NA EUV光刻机系统的验证,并计划在2023年交付给客户。

风险因素:新产品工艺验证时间长且风险高,PE估值较高的风险,晶圆制造项目可能遇到的技术及建设进度风险等。

1、市场规模:2020年全球光刻机销量413台,估计销售额130多亿美元均创历史新高

根据ASML、Canon、Nikon公告,全球光刻机销量413台,同比增长15%,按季度依次是95台、95台、97台、126台,分别同比增长19%、25%、8%、12%。


参考ASML单价,我们估计全球光刻机市场规模达到130多亿美元,同比增长20%以上,且2016-2020年全球光刻机市场规模年均复合增长23%。

2、市场增量:光刻机行业市场规模的增量主要来自EUV,全球销量占比27%的EUV与ArF immersion占光刻机市场销售额的82%

2020年EUV光刻机销量31台占比8%,销售额55亿美元同比增长76%,占光刻机市场规模的比例为42%;ArF i销量80台占19%,销售额估计54亿美元同比下降7%,但占全球光刻机市场的40%。ArF dry、KrF、i-line光刻机销量分别为32台、130台、140台,分别同比增长3%、57%、25%,销量占比依次是8%、31%、34%,销售额占比依次是5%、11%、3%。





3、竞争格局:ASML垄断约90%光刻机市场

2020年413台光刻机中,ASML销售258台占比62%,Canon销售122台(KrF、i-line)占比30%,Nikon销售33台占比8%。按销售额计算,ASML、Canon、Nikon的光刻机销售额占比依次是91%、3%、6%。





2020年,分产品来看:

(1)EUV目前仅有ASML制造供应;

(2)ArF immersion 80台销量中ASML销售了68台占85%,Nikon销售了12台占15%;

(3)ArF dry光刻机32销量中,ASML销售22台占69%,Nikon销售10台占比31%;

(4)KrF光刻机行业销量140台中,ASML占79%,Canon占19%,Nikon占2%;

(5) i-line光刻机销量中,ASML占24%,Canon占69%,Nikon占6%。

4、客户结构:ASML逻辑客户收入贡献比例7成,但存储客户的采购额2020年实现同比正增长

2020年ASML客户结构中,逻辑客户收入占比72%,存储客户收入占比仅为28%但相比2019年上升了1个百分点。

实际上,逻辑客户2020年收入74亿欧元同比增长8%,预计2021年同比增长10%达到82亿欧元。

存储客户2020年收入29亿欧元同比增长14%,预计2021年同比增长20%达到35亿欧元,表明3D Nand或DRAM等存储厂资本开支持续恢复增长。

5、EUV:2021年延续高增长势头,High-NA EUV光刻系统将始于2nm、2nm+等技术节点

2020年ASML EUV收入45亿欧元,同比增长59%,预计2021年EUV光刻机收入58亿欧元同比增长30%。



尽管EUV也将被用于DRAM(尤其是1a技术节点及以下),但Logic先进制程仍是主要需求方。High-NA EUV光刻系统将始于N2、N2+技术节点,其量产时间表估计将是2025-2026年。ASML将在2022年完成第1台High-NA EUV光刻机系统的验证,并计划在2023年交付给客户。


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